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等离子清洗机清洗原理和面板结构

2017-01-05

清洗原理
等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的.

等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成,分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。
就以下三个部分做一个陈述:
一、控制单元:
目前国内使用的等离子清洗机,包括国外进口的,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。
而控制单元又分为两个大的部分:1)电源部分:主要电源频率有三种,分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要电源匹配器的,而2.45GHz又称为微波等离子,主要的功能作用,前面已经提到了,这里就不一一介绍了。2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。
二、真空腔体:
真空腔体主要是分为两种材质的:1)不锈钢真空腔体,2)石英腔体。
三、真空泵:
真空泵分为两种:1)干泵 、2)油泵

等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面.以达到清洗目的.

以下为等离子清洗机面板按钮和背面结构:
等离子表面处理机由等离子发生器,气体输送管路及等离子喷头等部分组成,等离子发生器产生高压高频能量在喷嘴钢管中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体,等离子体中粒子的能量一般约为几个至几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个至十几电子伏特),完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键;但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理,材料面发生多种的物理、化学变化。表面得到了清洁,去除了碳化氢类污物,如油脂,辅助添加剂等,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团(羟基、羧基),这些基因对各类涂敷材料具有促进其粘合的作用,在粘合和油漆应用时得到了优化。在同样效果下,应用等离子体处理表面可以得到非常薄的高张力涂层表面,有利于粘结、涂覆和印刷。不需其他机器、化学处理等强烈作用成份来增加粘合性。

  目前各种薄膜的生产已经普遍采用电晕处理的方法来解决表面亲和性的问题。

  由于电晕只能在两个相邻的平行电极间进行,且距离不能过大,所以电晕处理的方法不适合用来处理三维物体的表面极化问题。如果用火焰法来处理,其弱点是所有聚合物都是易燃和熔点低。当有机材料置于高温火焰下时,会因受高温的处理而变形、变色、表面粗糙、燃烧和散发出有毒气体。且处理工艺难以掌握。

  三维物体表面的改性处理采用等离子处理工艺为最佳方案。其原理如图一所示。

  在电极两端施加交流高频高压,使两电极间的空气产生气体弧光放电而形成等离子区。等离子在气流的吹动下到达被处理物体的表面而实现对3D 表面进行改性的目的。

  等离子体表面处理机喷射出的低温等离子体炬由于不带电,因此,可以处理金属材料、非金属材料和半导体。

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